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不用 EUV 也能直上 5 奈米，鎧俠與合作夥伴欲先導入量產
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    • 白雲2014

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    [國際新聞評論] 不用 EUV 也能直上 5 奈米，鎧俠與合作夥伴欲先導入量產
    #1
    發表於 2021-10-23 16:45 
    半導體製程技術進入 10 奈米節點後，EUV 曝光設備是不可或缺的步驟，但 EUV 曝光設備每台價格高達 1.5 億美元，且產量有限，讓晶片生產成本驟升。為解決問題，日本記憶體大廠鎧俠（Kioxia）聯合合作夥伴開發新技術，可不使用 EUV 曝光設備就直達 5 奈米。



    日本媒體報導，鎧...



    ASML 今次遇勁敵 !!!!

    是否可擺脫美國控制 ????

    新聞來源連結:
    https://technews.tw/2021/10/22/can-go-straight-to-5nm-without-euv/




    消息稱西部數據與日本晶元商Kioxia合併談判陷入僵局
    https://news.sina.com.tw/article/20211022/40308248.html


    美國出手太低了

    [ 本帖最後由 白雲2014 於 2021-10-23 04:47 PM 編輯 ]
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    冰風蓋天

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    #2
    發表於 2021-10-23 17:01 
    都係美國逼出來，全世界都怕被美國掐脖子。
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    令狐椒

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    #3
    發表於 2021-10-23 17:10 
    亞洲人技術又要超越懶惰的西人了.
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    banjo.

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    #4
    發表於 2021-10-23 17:11 
    美狗頂唔得幾耐.
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    Tokyo2040

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    #5
    發表於 2021-10-23 18:27 
    [隱藏]
    日本又偷走美國未來技術，美國要好好調教一下小日本。
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    ron11

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    #6
    發表於 2021-10-24 08:09 
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    原帖由 banjo. 於 2021-10-23 05:11 PM 發表
    美狗頂唔得幾耐.
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