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原帖由 win9876432 於 2021-2-26 02:21 PM 發表 用光刻機把集成電路蝕刻到硅晶片上,是芯片製造過程中的必要環節,但目前高端光刻機製造被海外公司壟斷,並對中國實行出口管制。2月25日,清華大學與國外研究團隊在《自然》發表一項科研成果,該成果未來有望應用於EUV(極紫外光源)光刻和角分辨光電子能譜學等領域。該文章通訊作者、清華大學工程物理系教授唐傳祥表示,這一發現有望解決自主研發光刻機中最核心的「卡脖子」難題,目前清華大學研究組已向國家發改委提交項目 ...
原帖由 ichthys2 於 2021-2-26 02:30 PM 發表 美國想擺脫中國的控制,同樣地,中國都想擺脫美國的控制。
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原帖由 wgcn 於 2021-2-26 02:30 PM 發表 又抄襲當自主研發
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原帖由 ngblowwater-a1 於 2021-2-26 02:42 PM 發表 又係酸既 《自然》評閱人對該研究高度評價,認為「展示了一種新的方法論」,「必將引起粒子加速器和同步輻射領域的興趣」。
原帖由 伍皓昌 於 2021-2-26 02:47 PM 發表 自然係咩來? 食唔食得? ............YC問...