中芯國際稱產能接近滿載 國產芯片14nm進入爆發期
自今年回歸科創板以來,中芯國際作為國產芯片的第一龍頭始終牽動着各界的關注。11月26日消息,中芯國際表示公司客戶需求強勁,訂單飽滿,第三季度產能利用率接近滿載。展望2020年全年,公司的收入目標上修為24%至26%的年增長。全年毛利率目標高於去年。
中芯國際聯合CEO梁孟松表示,目前14nm量產良率已達業界量產水準,但距離世界一流企業,還有一定的技術差距,還有很長的路要走。總體來說,我們正在與國內和海外客戶合作十多個先進工藝,流片項目,包含14nm及更先進工藝技術。
「雖然我們在先進工藝的研發和運營上,取得了一些成績,但我們距離世界一流企業,還有一定技術差距,還有很長的路要走。」
他表示,作為晶圓代工企業,我們是獨立運營的國際企業,目標是服務全球客戶。
中芯國際喜訊不斷,國產7納米芯片實現突破!
目前可以量產14納米製造工藝的芯片代工企業,只有台積電、三星、格羅方德、台聯電、中芯國際等5家企業。
其中格羅方德和台聯電在幾年前就宣布放棄研發7納米以上的工藝製程,因為無法負擔高昂的研發費用,而且即便研發成功後續也沒有穩定的客源,投資風險太大。
因此向尖端工藝進軍的只有台積電、三星和中芯國際三家代工企業。
其中台積電和三星的技術最先進,目前已經進入5納米的量產。
中芯國際作為國內技術最先進的芯片製造企業,最近也傳來了喜訊。
據中芯國際CEO在業績說明會上透露,目前中芯國際的14納米工藝芯片良品率已經達到了行業標準,而且產能滿載,訂單需求量龐大。
去年底中芯國際才宣布實現14納米工藝的量產,當時華為海思第一時間送上了麒麟710A的芯片訂單。一年之內中芯國際就把良品率提升到行業標準,這是一個非常大的突破。
更大的突破來自於7納米。中芯國際聯席CEO梁孟松表示,目前中芯正穩步推進N+1和1+2工藝戰略,目前已經有客戶使用N+1工藝進行了流片測試。業內普遍認為,中芯國際的N+1和N+2工藝對應的是台積電的7納米。
其中N+1工藝使用現有的DUV光刻機也可以生產,性能比台積電7納米略差。N+2工藝則必須使用EUV光刻機才能生產,性能比台積電使用EUV光刻機的7納米+略差。
自從梁孟松2017年加盟中芯國際後,中芯的工藝技術就開始突飛猛進的發展,以往與台積電三四代的技術代差,現在也縮小到了2代。
如果中芯際的N+1工藝研發順利的話,那明年就能投入量產了。這對國內的半導體產業都有非常大的鼓舞。